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【包邮】ZYGO Verifire XL 激光干涉仪

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21022401
品牌
ZYGO
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Verifire™ XL 激光干涉仪是一个独立的工作站,设计用于直径达12英寸(300毫米)的大型平面的简单可靠计量。示例包括前表面反射器,窗口和半导体晶片或晶片卡盘。
这种完全集成的系统易于使用,具有重型倾斜/倾斜平台,可提供可重复的零件放置,无需定制夹具。
Verifire™ XL 激光干涉仪外形紧凑,内置隔振,需要最小的生产空间。

振动稳健
Verifire XL系统包括ZYGO的专利QPSI™采集技术,可在存在振动的情况下进行可靠的高精度测量。QPSI可实现真正的轴上表面形状测量,而不会降低典型的生产振动。

准确的计量
Verifire XL系统中的高性能变速箱平面设计用于对重力下垂的最小灵敏度,并包括一个全区域校准文件,以实现最佳系统精度。

Mx™软件
ZYGO专有的Mx™测量和分析软件提供广泛的操作功能和数据可视化工具,可在易于使用的界面中实现无与伦比的测量功能。
MX软件现在包括SmartAveraging®技术,可帮助获得在最短的时间量最好的测量,以及内置的SPC提供了强大的能力进行生产的情况。

主要特点
•12“(300mm)光圈
•紧凑的占地面积,独立系统
•易于零件装载和对齐
•简单的设置和简化的操作
•内置预对准传输平面
•集成的隔振和QPSI™技术,可在生产环境中进行可靠的测量

130.jpg

 Large-Aperture Downward-Looking Interferometer Workstation

 The Verifire™ XL interferometer is a stand-alone workstation designed for simplistic and reliable metrology of large flat surfaces up to twelve inches (300 mm) in diameter. Examples include front-surface reflectors, windows, and semiconductor wafers or wafer chucks.

This fully integrated system is easy to use, with a heavy duty tip/tilt stage that provides repeatable part placement without the need for custom fixturing. The compact footprint, with built-in vibration isolation, requires minimal production floor space.

 

Vibration Robust

 The Verifire XL system includes ZYGO's patented QPSI™ acquisition technology which enables reliable high-precision measurements in the presence of vibration. QPSI enables true on-axis surface form metrology, without degradation from typical production vibrations.

 

Accurate Metrology

 The high-performance transmission flat in the Verifire XL system is designed for minimal sensitivity to gravitational sag, and includes a full-area calibration file to enable optimum system accuracy.

 

Mx™ Software

 ZYGO's proprietary Mx™ measurement and analysis software offers a wide range of operational features and data visualization tools for unmatched measurement capability in an easy-to-use interface. Mx software now includes SmartAveraging®technology that helps to obtain the best possible measurement in the shortest amount of time, and the built-in SPC provides powerful capability for production situations.

 


System OverviewMeasurement Capability

 

Measures surface form of 

reflectivematerials and optics

 

Measurement Technique

 

QPSI™ mechanical phase-shifting and traditional mechanical

 phase-shifting interferometry (PSI)

 

Alignment System

 

Quick Fringe Acquisition System 

(QFAS) with twin spot reticle

 

QFAS Field of View

 

±1 deg

Measurement Uncertainty

 

<30 nm (l/20 @ 633 nm)

Test Beam Diameter

 

12 in. (300 mm)

Camera DetailsResolution: 1024 x 1024 pixels

 

Frame Rate: 100 Hz

 

Digitization: 8 bit

 

Shutter Time: 200 μs – 10 ms (QPSI)

Acquisition Time

 

130 - 300 ms

Magnification

 

1x–6x continuous zoom

 (1-50x digital)

 

Polarization

 

Nominally circular (1.2:1 or better)

Computer and Software

 

monitor, Windows 10 64 bit, 

Mx™ software

 

Footprint

 

See figure on next page

Weight

 

2560 lb (1160 kg)

Power

 

100 to 240 VAC, 50/60 Hz

Compressed Air

 

80 psi (5.5 bar); dry and filtered source 

 (required for vibration isolation)

 

Laser DetailsLaser Source

 

High power stabilized HeNe, 

Class IIIa

 

Class

 

Class I output at instrument aperture

Wavelength

 

633 nm

Frequency Stabilization

 

<0.0001 nm

Coherence Length

 

>100 m

Reference OpticDiameter

 

315 mm

Clear Aperture

 

300 mm

Surface Quality

 

l/10 PVr

Part StageDimensions

 

See figure on next page

Tilt Range

±

3.5 deg, with manual adjustment knobs

Weight Capacity

 

30 kg; payload within 50 mm of stage center

Test Part CharacteristicsPart Size

 

Up to 600 mm wide x 300 mm high

Surface

 

Specular @ 633 nm

Reflectivity

 

1% to 40% @ 633 nm

Minimum Wedge

 

20 arc sec(for transparent material @ 633 nm)

 

Operational EnvironmentTemperature

 

15 to 30°C (59 to 86°F)

Rate of Temp. Change

 

<1.0°C per 15 min

Humidity

 

5 to 95% relative, non-condensing

Vibration Isolation

 

Included with system. QPSI enables 

metrology in environments with vibrations 

of a magnitude of up to ~150 nm.

 


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